X射線光電子能譜（XPS-EDS）
發(fā)布時(shí)間：2025-06-13 15:47:58- 點(diǎn)擊數(shù)： - 關(guān)鍵詞：X射線光電子能譜（XPS-EDS）
實(shí)驗(yàn)室擁有眾多大型儀器及各類分析檢測(cè)設(shè)備，研究所長(zhǎng)期與各大企業(yè)、高校和科研院所保持合作伙伴關(guān)系，始終以科學(xué)研究為首任，以客戶為中心，不斷提高自身綜合檢測(cè)能力和水平，致力于成為全國(guó)科學(xué)材料研發(fā)領(lǐng)域服務(wù)平臺(tái)。
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X射線光電子能譜(XPS-EDS)
廠家： Ulvac-PhI
型號(hào)：PHI 5000 VersarProbe II
技術(shù)指標(biāo)
發(fā)射源：Al/Mg雙陽(yáng)極
較小分辨率：0.48 eV
取樣深度：3nm
較大真空壓力：主分析室6.7×10-8Pa或更小
主要功能
X射線光電子能譜儀主要用于元素的定性分析，固體材料表面組成分析，材料化學(xué)狀態(tài)分析，元素成分的深度分析 樣品的原位處理，高分子材料的表面和界面研究，化合物的結(jié)構(gòu)分析 ，還可以對(duì)材料表面的不均勻腐蝕，缺陷等進(jìn)行微區(qū)差異性分析，確定缺陷的成分，為選材和判斷失效提供幫助。
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