晶圓老化測試
實驗室擁有眾多大型儀器及各類分析檢測設備,研究所長期與各大企業(yè)、高校和科研院所保持合作伙伴關(guān)系,始終以科學研究為首任,以客戶為中心,不斷提高自身綜合檢測能力和水平,致力于成為全國科學材料研發(fā)領(lǐng)域服務平臺。
立即咨詢晶圓老化測試:關(guān)鍵檢測項目概述
晶圓老化測試(Wafer Burn-In, WBI),也稱為晶圓級老化(Wafer Level Burn-In, WLBI),是半導體制造中一項關(guān)鍵的可靠性篩選工藝。其核心目的在于,在晶圓切割和封裝成單個芯片之前,通過施加加速應力條件,提前暴露并剔除那些具有潛在早期失效風險的器件。該測試主要聚焦于以下幾類檢測項目:
核心檢測項目
-
電氣參數(shù)穩(wěn)定性與漂移:
- 關(guān)鍵參數(shù)監(jiān)測: 在老化應力施加期間及之后,持續(xù)或定時監(jiān)測晶體管和電路的關(guān)鍵直流(DC)參數(shù)和交流(AC)參數(shù)。
- 主要關(guān)注點: 閾值電壓(Vth)、關(guān)斷態(tài)漏電流(Ioff, Ileakage)、飽和電流(Idsat)、導通電阻(Ron)、傳輸延遲(Propagation Delay)、各類工作電流(靜態(tài)電流 I<sub>ddq</sub>、動態(tài)電流 Idd)等。
- 檢測目標: 識別超出規(guī)格限的參數(shù)漂移或失效。例如,由負偏置溫度不穩(wěn)定性(NBTI)或熱載流子注入(HCI)效應引起的Vth漂移過大,或者由柵氧缺陷導致的漏電流異常增大。
-
功能性測試:
- 向量測試: 在老化應力條件下,向電路施加預定義的測試向量序列(Test Patterns)。
- 主要關(guān)注點: 驗證芯片的邏輯功能是否在老化過程中及之后依然正確。這包括執(zhí)行全面的功能測試、存儲器測試(如SRAM, DRAM單元)、模擬/混合信號模塊測試等。
- 檢測目標: 捕捉老化應力誘發(fā)的功能失效,如邏輯錯誤、存儲器單元失效(位翻轉(zhuǎn)、讀寫故障)、時鐘或復位信號異常、接口通信錯誤等。
-
結(jié)構(gòu)性測試:
- 掃描鏈測試(Scan Test): 利用芯片內(nèi)部設計的掃描鏈結(jié)構(gòu),在老化前后執(zhí)行測試。
- 內(nèi)置自測試(BIST): 運行存儲器BIST(MBIST)、邏輯BIST(LBIST)等在老化過程中或老化后。
- 主要關(guān)注點: 檢測由老化應力加劇或引發(fā)的制造缺陷(如金屬互連開/短路、接觸問題、柵氧薄弱點)導致的固定型故障(Stuck-at)、跳變故障(Transition)、路徑延遲故障(Path Delay)等結(jié)構(gòu)性問題。
- 檢測目標: 識別因老化而顯現(xiàn)或惡化的結(jié)構(gòu)性缺陷,確保內(nèi)部互連和單元結(jié)構(gòu)的可靠性。
測試的核心要素(服務于檢測)
- 加速應力條件:
- 高溫(Elevated Temperature): 通常在125°C 至 150°C 甚至更高范圍,遠高于正常操作溫度,加速電化學反應和缺陷發(fā)展。
- 過電應力(Electrical Overstress - EOS): 施加高于額定工作電壓(V<sub>dd</sub>)的電壓(如1.1x - 1.3x V<sub>dd</sub>),增加電場強度,加速與電場相關(guān)的失效機制(如TDDB)。
- 動態(tài)信號激勵: 在功能測試或結(jié)構(gòu)測試期間施加高頻時鐘信號和開關(guān)活動,增加電路動態(tài)功耗和內(nèi)部節(jié)點的切換頻率,加速與動態(tài)應力相關(guān)的失效(如HCI、電遷移)。
- 測試執(zhí)行方式:
- 并行測試: 利用探針卡上的眾多探針,同時對晶圓上的多個芯片(Die)施加應力并執(zhí)行測試,提高效率。
- 周期性監(jiān)測(PMON - Periodic Monitoring): 在老化過程中,定期暫停應力,執(zhí)行較快速的參數(shù)測量或功能檢查。
- 老化前/后測試對比: 在施加老化應力之前(Pre-BI)和之后(Post-BI)執(zhí)行全面的晶圓驗收測試(WAT)和/或晶圓最終測試(WFT),比較關(guān)鍵參數(shù)和功能測試結(jié)果,識別在老化過程中退化或失效的器件。
- 失效分析與剔除:
- 失效定位: 對于老化測試中失效的芯片,會記錄其位置和失效模式(參數(shù)失效、功能失效、結(jié)構(gòu)失效)。
- 物理失效分析(PFA): 對于特定失效樣品,可能進行進一步的分析(如聚焦離子束顯微鏡FIB,掃描電鏡SEM,透射電鏡TEM)以確定根本失效機理。
- 晶圓圖標記(Wafer Mapping): 失效芯片的位置會被清晰地標注在晶圓圖上,以便在后續(xù)的切割(Dicing)和封裝(Packaging)工序中將這些潛在的早期失效體剔除。
總結(jié)
晶圓老化測試的核心在于通過施加高溫和過電(電壓/動態(tài))應力,在晶圓級主動激發(fā)潛在的可靠性缺陷。其檢測項目緊密圍繞電氣參數(shù)穩(wěn)定性、功能正確性以及結(jié)構(gòu)完整性這三大方面。通過在嚴苛環(huán)境下監(jiān)測參數(shù)漂移、執(zhí)行功能向量測試和結(jié)構(gòu)性掃描/BIST測試,該工藝能有效識別出那些可能在使用壽命早期發(fā)生故障的器件,從而顯著提升最終交付產(chǎn)品的固有可靠性和質(zhì)量水平,是確保集成電路滿足嚴格壽命要求的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

